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TMC784系列研究等級光學平臺

更新時間:2024-10-16

簡要描述:

TMC784系列研究等級光學平臺性能上是工業中的。它具有TMC*的CleanTop設計:小的核心尺寸,高的核心密度設計,全鋼結構以及商用高等級結構阻尼。研究等級的CleanTop在要求很嚴苛的領域如干涉儀、全息術,和超快激光技術,以及嚴重的地板振動環境中都被推薦使用。將STACIS® iX 支腿或混合空氣/壓電平臺振動消除系統和此平臺結合使用,可以形成好的整體振動控制。

TMC784系列研究等級光學平臺

研究等級的 CleanTop 在光學平臺性能上是工業中的。它具有TMC*的CleanTop設計:小的核心尺寸,高的核心密度設計,全鋼結構以及商用高等級結構阻尼。研究等級的CleanTop在要求很嚴苛的領域如干涉儀、全息術,和超快激光技術,以及嚴重的地板振動環境中都被推薦使用。將STACIS® iX 支腿或混合空氣/壓電平臺振動消除系統和此平臺結合使用,可以形成好的整體振動控制。

TMC784系列研究等級光學平臺

TMC784系列研究等級光學平臺特點:

  1、結構阻尼---研究等級

  2CleanTop獨立尼龍杯,每一個螺紋孔下面都是密封的(25mm

一般技術要求:

  核心:鋼制蜂窩封閉孔,0.010英寸厚的鋁箔
  核心剪切模量:275000 psi
 
核心單元尺寸:< 0.5 in.2
 
核心密度:13.3/發生(230公斤/立方米)
 
平面度:0.005英寸。(0.13毫米)
 
桌面表層:430系列鐵磁不銹鋼,3/16英寸厚(5毫米)
 
側壁:阻尼成型槽鋼,乙烯基覆蓋

螺紋孔:25毫米長CleanTop尼龍杯


角順應性數據測量了平臺在響應校準錘的沖擊時所產生的位移。順應性是在48in x 96in x 12in的平臺上測量的。

TMC784系列研究等級光學平臺

研究級:角落順應性數據可測量工作臺響應校準錘沖擊的位移。300 Hz以下的無響應表明具有ji高的阻尼和出色的整體結構性能。順應性在一個48 x 96 x 12英寸的工作臺上進行測量。


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